
この装置は、Arグロー放電内で試料を高周波スパッタリングし、スパッタされた原子のArプラズマ内における発光線を分光することにより、深さ方向の元素分布を測定する機器です。
- メーカー・型式
- 株式会社堀場製作所
GD Profiler2 - 性 能
- 測定元素 :
ポリクロメーター(H,Li,B,C,N,O,Na,Mg,Al,Si,P,S,Cl,Ar,K,Ca,Ti,V,Cr,Fe,Co,Ni,Cu,Zn,Mo,
Ag,In,Sn,W,Au,Pb)
モノクロメーター(H~U、1元素)測定エリア:4mmφ(標準)、2mmφ、7mmφ
試料サイズ:10mm
深さ分解能:数nm
測定深さ:数nm~100μm(最大) - 用 途
- 薄膜・めっき・熱処理・表面処理・コーティングなどの各種表面処理品
表面改質品の深さ方向分析 - 設置年度
- 2014年度
- 担 当
- 基盤技術課 材料評価係
TEL 075-315-8633 FAX 075-315-9497
E-mail kiban@kptc.jp - 使用料(基本額)
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- 依頼試験手数料(基本額)
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参考情報
- 表面元素の濃度プロファイルを迅速に測定 グロー放電発光分光分析装置(GD-OES)(『クリエイティブ京都M&T』2020年9月号)
- 個体材料分析フローチャート(『クリエイティブ京都M&T』2019年1月号)
- グロー放電発光分析装置のご紹介(『クリエイティブ京都M&T』2016年4月号)