固体試料にＸ線を照射し、表面から数 nm程度までの深さから放出される光電子のエネルギースペクトルを測定することにより、表面微小部(200μmφ範囲)の元素組成及び化学結合状態が分析できます。また、Arイオン銃の他に、有機物材料には低損傷で深さ方向分析ができるArガスクラスターイオン銃を搭載しています。
- メーカ・型式
- アルバック・ファイ株式会社
PHI5000 VersaProbe2 - 性 能
- Ｘ線源 ： モノクロメータ(Alアノード)、デュアルアノード(Mg/Al)
Ｘ線ビーム径 ： φ10～200μm
Ｘ線スキャン範囲 ： □1.4ｍｍ×1.4ｍｍ
最高エネルギー分解能 ： 半値幅0.57eV(Ag3d)
Arイオン銃加速電圧 ： 0.2～5kV
Arガスクラスターイオン銃加速電圧 ： 1～20 kV
最大試料サイズ ： φ60mm(高さ8mm)以下 - 用 途
- 金属材料、各種薄膜などの研究・開発や変色、表面変質などの原因解析等にご利用いただけます。
絶縁物試料には低エネルギー電子とArイオンの同時照射により帯電中和ができます。 - 設置年度
- 2014年度
- 担 当
- 応用技術課 表面構造係
TEL 075-315-8634 FAX 075-315-9497
E-mail ouyou@kptc.jp - 使用料（基本額）
-
イオン銃
ガスクラスターイオン銃 - 依頼試験手数料（基本額）
- こちらをご覧ください
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参考情報