高精度マスクアライメント装置

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この装置は、電子機器や光学機器に組み込まれる集積回路の微細パターンを半導体のウェハに転写作成できます。
原版となる複数のマスクを使って、多層構造のパターニングが可能です。
光導波路デバイスの導波路と電極パターンの作成ができます。

メーカ・型式
ミカサ株式会社
MA-20K型
性 能
最大基板サイズ : φ4インチ、2mm
アライメント精度 : 1.2μm(20倍対物レンズ)
マニピュレータ : X・Y±5mm、Z4mm
露光用タイマー : 積算光量カウンター式
設置年度
1998年
担 当
応用技術課 表面・微細加工担当
TEL 075-315-8634        FAX 075-315-9497
E-mail ouyou@kptc.jp
使用料(基本額)
こちらをご覧ください

活用事例

高精度マスクアライメント装置によって、厚膜レジストを加工した例

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