
この装置は、電子機器や光学機器に組み込まれる集積回路の微細パターンを半導体のウェハに転写作成できます。
原版となる複数のマスクを使って、多層構造のパターニングが可能です。
光導波路デバイスの導波路と電極パターンの作成ができます。
- メーカ・型式
- ミカサ株式会社
MA-20K型 - 性 能
- 最大基板サイズ : φ4インチ、2mm
アライメント精度 : 1.2μm(20倍対物レンズ)
マニピュレータ : X・Y±5mm、Z4mm
露光用タイマー : 積算光量カウンター式 - 設置年度
- 1998年
- 担 当
- 応用技術課 表面構造係
TEL 075-315-8634 FAX 075-315-9497
E-mail ouyou@kptc.jp - 使用料(基本額)
- こちらをご覧ください
活用事例
高精度マスクアライメント装置によって、厚膜レジストを加工した例