この装置は、電子機器や光学機器に組み込まれる集積回路の微細パターンを半導体のウェハに転写作成できます。
原版となる複数のマスクを使って、多層構造のパターニングが可能です。
光導波路デバイスの導波路と電極パターンの作成ができます。

メーカ・型式

ミカサ株式会社
MA－20K型

性　能

最大基板サイズ ： φ4インチ、2mm
アライメント精度 ： 1.2μm(20倍対物レンズ)
マニピュレータ : X･Y±5mm、Z4mm
露光用タイマー ： 積算光量カウンター式

設置年度

1998年

担　当

応用技術課　表面構造係
TEL　075－315－8634        FAX　075－315－9497
E-mail　ouyou@kptc.jp

使用料（基本額）

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活用事例

高精度マスクアライメント装置によって、厚膜レジストを加工した例