クロスセクションポリッシャ (場所:綾部)

 

各種材料の組織観察のため、イオンビームを用いた凹凸が少ない表面の試料を作成することができます。

 

 

 

 

メーカ・型式

日本電子
  IB-19530CP

性 能
イオン加速電圧  2~8kV
ミリングスピード 500μm/h 
自動スイング機能 ±30°
 最大試料サイズ 11mm(幅)×10mm(長さ)×2mm(厚さ)
CCDカメラによる試料位置合わせ
用 途
イオンビームを用いた試料面の作製
設置年度
2017年度
担 当
中丹技術支援室
TEL 0773-43-4340    
FAX    0773-43-4341
E-mail chutan@kptc.jp

使用料(基本額)
こちらをご覧ください

 

 

☆よくある質問(FAQ)

(1)試料のサイズや形状について教えてください。

 <断面ミリング>

  試料最大サイズ:幅11mm×奥行10mm×厚み2mm
  試料推奨サイズ:幅8mm×奥行8~10mm
 <平面ミリング>
  試料最大サイズ:φ40mm×厚み15mm

 

  *EBSD測定を行う場合:φ10mm以下×厚み2mm以下

(2)試料の前処理は必要ですか。

 <断面ミリング>

  加工面は研磨紙#800以上で仕上げてください。

 <平面ミリング>
  加工面は鏡面研磨で仕上げてください。
  *必要に応じて樹脂埋めして加工面を研磨してください。
  *樹脂埋めや研磨は当センター所有の「金相試料作製装置」で行うこともできます。

 

 

参考情報