半導体はデジタル社会を支える重要な基盤であり、京都では多様な産業が集積する中、半導体やその関連分野の研究開発が活発化しています。特に、半導体素材の研究を担う大学や研究機関が多数あり、産学公が連携して取組みを加速していくことがますます重要になっています。
そこで、半導体業界参入を目指す方、大学の研究設備に興味がある方、半導体について学びたい方等を対象に、半導体のキーテクノロジーであるリソグラフィ工程を学ぶ体験会を京都大学ナノテクノロジーハブ拠点のクリーンルーム内で実施します。
◇日 程 令和8年４月23日（木）、 5月21日（木）
※定員が少人数のため、同じ内容で2日開催します。
◇開催時間 13時00分 ～ 17時00分
◇実施内容 ① 事前説明（30分程度）リソグラフィ工程の流れについての紹介
② クリーンルーム内での体験（3時間程度）
フォトリソグラフィ工程の体験
◆露光：光を照射して回路パターンをレジストに書き込む工程
◆現像：回路パターンに基づきマスク（保護膜）を形成する工程
◆エッチング：レジストをマスクとし基板に回路等を刻み込む工程
◆検査：形状や膜厚、電気検査等を実施
③ 質疑応答（30分程度）
◇場 所 京都大学 吉田キャンパス ナノテクノロジーハブ拠点
◇参 加 費 無料
◇定 員 各回４名 ※先着順ですが、定員を超えた場合は府内中小企業を優先します。
※スペースの関係上、少人数となるため、同じ内容で2日開催します。
◇申込方法 WEBからの申込みはこちら
E-mail、FAXでの申込みは下記の参加申込書をダウンロードし、必要事項を記入の上、お送りください。
◇申 込 先 京都府中小企業技術センター 表面構造係
TEL：075-315-8634、FAX：075-315-9497、E-mail：surface@kptc.jp
◇案内資料・申込書
主催：京都府中小企業技術センター 協力：京都大学ナノテクノロジーハブ拠点
共催：AI時代に向けた京都ものづくり産業の成長戦略実行委員会
お申込み・お問合せ先
京都府中小企業技術センター 応用技術課 表面構造係
TEL 075-315-8634 FAX 075-315-9497
E-mail：surface@kptc.jp