真空蒸着装置

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この装置は、容器内を真空状態にして金属などの物質に熱を加え蒸発させ、真空中で気体になった金属などの物質の分子が試料に衝突、付着することで膜が形成されコーティングできます。

メーカ・型式
日本真空技術株式会社
EBH-6
性 能
真空排気装置:DP
加熱源:抵抗加熱
試料:固定式10cm角まで
設置年度
1981年
担 当
応用技術課 表面・微細加工担当
TEL  075-315-8634       FAX 075-315-9497
E-mail ouyou@kptc.jp
使用料(基本額)
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活用事例

4inchシリコンウエハ表面にめっきシード層として、当装置によってCr/Niを蒸着後。
ニッケルめっき電鋳によって微細金属構造体を試作した例。

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